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小型氣氛回轉(zhuǎn)管式爐硅碳包覆氧化亞硅回轉(zhuǎn)窯，主要用于粉末、顆粒在氣氛保護中的動態(tài)燒結與還原。動態(tài)燒結使物料受熱更均勻、品質(zhì)更高。

立式爐系列主要適用于粉料、顆粒的燒結，并分成動態(tài)與靜態(tài)燒結二大系列，動態(tài)燒結使物料受熱更均勻、燒結時間縮短等優(yōu)勢。

間歇式回轉(zhuǎn)爐是我公司技術研制開發(fā)的高性能高節(jié)能的新型電爐，主要運用于粉體顆粒在動態(tài)環(huán)境下的燒結，具有溫度均勻，燒結時間縮短，有利于物料燒結時候的反應、烘干、揮發(fā)、還原等優(yōu)點。

高溫升降爐 氧化鋯陶瓷材料 硅片燒結燒結爐的使用范圍非常廣泛，適用于工礦企業(yè)、科研單位、大專院校實驗室等化學分析、物理測定、已廣泛應用于電池材料、電子陶瓷、磁性材料、有色金屬、化工原料等產(chǎn)品的研究及小批量生產(chǎn)。

主要用于銀基線材連續(xù)加熱后拉拔。拉拔過程中，連續(xù)加熱，加熱過程在減少線材與爐罐的接觸，避免收線噴到爐罐氧化皮。